[上一頁] [下一頁]  

電子元器件清洗用純水

工藝選用：RO+自動雙床+自動混床
設備特點：全自動控制
使用廠家：#聯富電子廠

　　該廠主要是從事電子元器件的製造。元器件的清洗中需要用到高純度的純水。由於供水不足系統採用自行打井取得的地下水。由於是電子元器件的製造，決大部分均採用自動控制系統，操作員工主要在在產包裝和檢驗上，現場製造操作工比較少，整套系統自動化程度較高。工人比較習慣自動系統的操作。根據工藝需要產水水質必須達到2MΩ.cm，自動化程度要求高。

　　此套系統位於該廠樓頂（四樓頂）由頂部貯水箱貯產品水然後自流到到一樓的用水點上。井水由深井泵打到四樓頂的貯水池中，在到達頂部的管線中增加射流器吸入空氣進行混合，並打作為花撒布水，與空氣進行二次接觸。貯水池的水經過曝氣後入自動反滲透系統，反滲透砂濾系統採用錳砂過濾，除去井水中的錳。預處理系統採用美國GE公司180自動閥門和義大利SIATA自動閥門作預自理自動控制。反滲透系統及自動雙床系統（830）控制系統和自動混合離子統一由三菱FX2-96MTPLC實行自動控制。反滲透系統、自動雙床系統、自動混床系統由控制在PLC系統中進行單獨控制，但系統的啟閉進行關聯。主控電路控制面板上設有整套系統工藝流程圖上，每個運作點或電氣設備上均設有LCD燈指示，各狀態指示列於側面，便於觀察當前系統狀態。

　　整套系統採用PLC統一自動控制，配以流程指示面板及狀態指示燈，使整個純水系統工況一目了然，系統自動操作簡單，達到預想目標。系統在實際運行中RO產水水質為15μS/cm，雙床產水水質為1μS/cm，混床產水水質為0.1μS/cm